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- GB/T 43315-2023 硅片流动图形缺陷的检测 腐蚀法

【国家标准】 硅片流动图形缺陷的检测 腐蚀法
本网站 发布时间:
2024-06-03
- GB/T 43315-2023
- 现行
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标准号:
GB/T 43315-2023
标准名称:
硅片流动图形缺陷的检测 腐蚀法
英文名称:
Test method for flow pattern defects in silicon wafer—Etching technique标准状态:
现行-
发布日期:
2023-11-27 -
实施日期:
2024-06-01 出版语种:
中文简体
起草人:
朱志高 陈俊宏 陈凤林 高海棠 李素青 朱晓彤 由佰玲 吕莹 潘金平 张海英 胡晓亮 方丽霞 陈跃骅 黄景明起草单位:
中环领先(徐州)半导体材料有限公司、山东有研半导体材料有限公司、中环领先半导体材料有限公司、浙江海纳半导体股份有限公司、厦门万明电子有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、麦克斯电子材料股份有限公司、浙江旭盛电子有限公司归口单位:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)提出部门:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)发布部门:
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
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