- 您的位置:
- 中国标准在线服务网 >>
- 全部标准分类 >>
- 国家标准 >>
- H21 >>
- GB/T 1553-2023 硅和锗体内少数载流子寿命的测定 光电导衰减法

【国家标准】 硅和锗体内少数载流子寿命的测定 光电导衰减法
本网站 发布时间:
2024-03-01
- GB/T 1553-2023
- 现行
开通会员免费在线看70000余条国内标准,赠送文本下载次数,单本最低仅合13.3元!还可享标准出版进度查询、定制跟踪推送、标准查新等超多特权!  
查看详情>>

文前页下载
适用范围:
本文件规定了非本征硅单晶和锗单晶体内载流子复合过程中非平衡少数载流子寿命的光电导衰减测试方法。本文件适用于非本征硅单晶和锗单晶中非平衡少数载流子寿命的测试。直流光电导衰减脉冲光法可测试具有特殊尺寸的长方体或圆柱体样品,测试硅单晶的最短寿命值为50 μs,测试锗单晶最短寿命值为10 μs。高频光电导衰减法可测试棒状或块状样品,测试硅单晶和锗单晶的最短寿命值为10 μs。注: 直流光电导衰减方法有两种:直流光电导衰减脉冲光法和直流光电导衰减斩波光法(见附录A)。
标准号:
GB/T 1553-2023
标准名称:
硅和锗体内少数载流子寿命的测定 光电导衰减法
英文名称:
Test methods for minority carrier lifetime in bulk silicon and germanium—Photoconductivity decay method标准状态:
现行-
发布日期:
2023-08-06 -
实施日期:
2024-03-01 出版语种:
中文简体
起草人:
孙燕 宁永铎 李素青 朱晓彤 贺东江 王昕 薛心禄 徐岩 潘金平 严大洲 王彬 蔡云鹏 田新 赵培芝 冉胜国 韩成福 普世坤 蔡丽艳 高源 赵晶 崔丁方起草单位:
有研半导体硅材料股份公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、广州昆德半导体测试技术有限公司、青海芯测科技有限公司、陕西有色天宏瑞科硅材料有限责任公司、浙江海纳半导体股份有限公司、洛阳中硅高科技有限公司、江苏中能硅业科技发展有限公司、宜昌南玻硅材料有限公司、江苏鑫华半导体科技股份有限公司、亚州硅业(青海)股份有限公司、云南临沧鑫圆锗业股份有限公司、云南驰宏国际锗业有限公司归口单位:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)提出部门:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)发布部门:
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
- 推荐标准
- 国家标准计划
- GB/T 43894.1-2024 半导体晶片近边缘几何形态评价 第1部分:高度径向二阶导数法(ZDD)
- GB/T 43313-2023 碳化硅抛光片表面质量和微管密度的测试 共焦点微分干涉法
- GB/T 43315-2023 硅片流动图形缺陷的检测 腐蚀法
- GB/T 23365-2023 钴酸锂电化学性能测试 首次放电比容量及首次充放电效率测试方法
- GB/T 43092-2023 锂离子电池正极材料电化学性能测试 高温性能测试方法
- GB/T 43093-2023 镍锰酸锂电化学性能测试 首次放电比容量及首次充放电效率测试方法
- GB/T 43096-2023 金属粉末 稳态流动条件下粉末层透过性试验测定外比表面积
- GB/T 42676-2023 半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法
- GB/T 42902-2023 碳化硅外延片表面缺陷的测试 激光散射法
- GB/T 42905-2023 碳化硅外延层厚度的测试 红外反射法
- GB/T 42907-2023 硅锭、硅块和硅片中非平衡载流子复合寿命的测试 非接触涡流感应法
- GB/T 6616-2023 半导体晶片电阻率及半导体薄膜薄层电阻的测试 非接触涡流法
- GB/T 1553-2023 硅和锗体内少数载流子寿命的测定 光电导衰减法
- GB/T 42789-2023 硅片表面光泽度的测试方法
- GB/T 1555-2023 半导体单晶晶向测定方法