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- GB/T 42789-2023 硅片表面光泽度的测试方法

【国家标准】 硅片表面光泽度的测试方法
本网站 发布时间:
2024-03-01
- GB/T 42789-2023
- 现行
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适用范围:
本文件描述了采用光反射法以20°、60°或85°几何条件测试硅片表面光泽度的方法。
本文件适用于硅腐蚀片、抛光片、外延片表面光泽度的测试,不适用于表面有图形的硅片的测试。
本文件适用于硅腐蚀片、抛光片、外延片表面光泽度的测试,不适用于表面有图形的硅片的测试。
标准号:
GB/T 42789-2023
标准名称:
硅片表面光泽度的测试方法
英文名称:
Test method for gloss of silicon wafer标准状态:
现行-
发布日期:
2023-08-06 -
实施日期:
2024-03-01 出版语种:
中文简体
起草人:
梁兴勃 李琴 张海英 林松青 潘金平 李素青 张雪囡 由佰玲 边永智 庄智慧 沈辉辉 焦二强 韩云霄 徐志群 付明全 詹玉峰 王可胜起草单位:
浙江金瑞泓科技股份有限公司、浙江海纳半导体股份有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、天津中环领先材料技术有限公司、山东有研半导体材料有限公司、上海合晶硅材料股份有限公司、麦斯克电子材料股份有限公司、广东金湾高景太阳能科技有限公司、浙江旭盛电子有限公司、巢湖学院、金瑞泓科技(衢州)有限公司归口单位:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)提出部门:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)发布部门:
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
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